氧化铟锡平面靶ITO

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氧化铟锡平面靶ITO

主要用于磁控溅射制备ITO透明导电薄膜。采用最先进的常压烧结工艺，多个靶管/靶块拼接贴合为ITO靶材成品。
应用领域：导电玻璃、触摸屏、太阳能电池、蒸镀制备透明导电薄膜
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